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Mar 28, 2007Auf eine mit einer Fluor-dotierten Zinndioxidschicht beschichteten 4 mm dicken Glasplatte (K-Glas der Firma Pilkington) der Gre 80 x 120 cm 2 erfolgte die Abscheidung eines Wolframoxidfilms. Der Flchenwiderstand des Substrats betrug 17 Ω/ .

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Hierbei ist zum ersten Mal die ternre Indium-Zinn-Oxid Legierung (ITO) als ohmischer Kontakt fr Si/SiSUB1-x/SUBGeSUBx/SUB Heterostrukturen benutzt worden. Ein wichtiger Schritt bestand im Aufbau einer thermischen Verdampfungsanlage fr ITO in Zusammenarbeit mit der Firma

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